型 号 | 溶液组成与使用条件 | 用途与特点 |
ATHC | 范围 最佳值 铬酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC 10～15ml/L 12 ml/L 温度 55～70℃ 60℃ 阴极电流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 阳极电流密度DA >30A/dm2
| *采用新型无氟催化剂，不腐蚀阳极，电流效率高达26% *镀层硬度高达HV950～1200，微裂纹为750～1000条/英寸，外观光亮、结晶细致
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ATHC-21 | 范 围 最佳值 铬酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC 10～15ml/L 12 ml/L 温度 55～70℃ 60℃ 阴极电流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 阳极电流密度DA >30A/dm2 | 采用新型无氟催化剂，不腐蚀阳极，电流效率高达26% 镀层硬度高达HV950～1200，微裂纹为750～1000条/英寸，外观光亮、结晶细致 镀液具有优异的分散能力、覆盖能力 普通镀铬及硼酸镀铬液可直接转化 |
ATHC100 | 范 围 最佳值 铬酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC100 铬酐∶ATHC100=100∶2.5 温度 55～70℃ 60℃ 阴极电流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 阳极电流密度DA >30A/dm2 | 采用新型无氟催化剂，不腐蚀阳极，电流效率高达26% 镀层硬度高达HV950～1200，微裂纹为750～1000条/英寸，外观光亮、结晶细致 镀液具有优异的分散能力、覆盖能力 普通镀铬及硼酸镀铬液可直接转化 |
